杭州璞璘科技（Prinano）近日通过官方微信公众号晓示，与深圳力策科技合营采纳自主研发的真空气压式纳米压印决策，已毕8英寸光芯片可限度化量产考证。
据报说念，该工夫绝对绕开传统深紫外（DUV）光刻门道，将光芯片制酿老本压缩至DUV决策的荒谬之一，为受ASML光刻机出口限制的中国芯片产业带来了新的晨曦。
斗鱼体育app中国官网下载这次量产冲破的中枢是璞璘科技自主研发的PL-AS真空气压式晶圆级纳米压印光刻开采，配合定制化双层压印胶材料体系与中枢工艺，悉数这个词出产经过无需使用ASML的DUV光刻机。
不同于行业主流的辊压和佳能喷墨步进式门道，该开采采纳“空气垫”式面交往压印旨趣，能将晶圆整面压力均匀性差错限度在0.5%以内，残余层厚度偏差小于2nm，同期援救硬质与柔性模板，AG真人中国官方网站线宽永诀率可达10nm以下。
比较辊压的线交往样式，气压式透顶惩处了压印均匀性不及的问题；而对比佳能的步进式工艺，其全域一次压印的恶果更符合光芯片的大限度出产。
更要害的是，纳米压印工夫已毕了跨标准微纳结构的一次成型。传统DUV光刻制造光芯转眼，濒临从几十纳米到数微米的复杂结构需要多说念工艺和多台开采配合，葡萄新京2026最新中国官方网站而纳米压印只需将悉数结构制作在归并派模板上，一次压印即可完成复刻，大幅镌汰了出产周期并约束了良率损耗。
现在，该工夫已在多个光芯片范围已毕量产考证，这些光芯片鄙俚利用于光通讯、传感和激光雷达范围。
不外，行业关于纳米压印工夫的现实价值仍存在鄙俚争议。《南华早报》指出，该工夫在量产限度、良率以及非光子芯片范围的适用性尚未取得充分考证。
筹商机构SemiAnalysis暗示，尽管纳米压印开采自身老本更低，但其现实老本上风取决于产能、模板出产、过错率和工艺集成水平，短期内难以替代DUV和EUV在先进逻辑芯片制造中的主导地位。璞璘科技也未泄漏具体的出产良率、出货量、客户订单及零丁考证数据，其生意化限度仍有待进一步不雅察。
这次冲破也响应出在好意思国主导的出口管束下，中国科技企业探索相反化工夫门道的合座趋势。从华为近期坑诰的韬（τ）定律将发展重点从晶体管微缩转向系统级数据传输、先进封装和三维集成，到各样开采初创企业在细分芯片范围寻找实用的制造替代决策，国产半导体产业正在通过多条旅途冲破工夫阻滞。
诞生于2017年的璞璘科技，首创东说念主葛海大军从纳米压印工夫前驱、好意思国工程院院士周郁。2025年8月，该公司已委用中国首台半导体级纳米压印光刻开采。这次8英寸光芯片量产冲破，标识着国产纳米压印工夫从实验室走向产业化利用的要害一步。
PL-AS 半导体级真空气压式纳米压印机
12寸晶圆光芯片压印展示
纳米压印光刻工夫量产激光雷达芯片展示葡萄新京